Ýarymgeçiriji litografiýa ulgamlarynda dünýä lideri bolan ASML ýakynda täze ekstremal ultrafiolet (EUV) litografiýa tehnologiýasyny işläp düzendigini yglan etdi. Bu tehnologiýanyň ýarymgeçiriji önümçiliginiň takyklygyny ep-esli ýokarlandyrmagyna, kiçi aýratynlyklara we ýokary öndürijilige eýe çipleriň öndürilmegine mümkinçilik döretmegine garaşylýar.
Täze EUV litografiýa ulgamy 1,5 nanometre çenli çözgüt çykaryp bilýär, bu bolsa häzirki litografiýa gurallarynyň nesline garanyňda ep-esli ösüşdir. Bu ýokarlandyrylan takyklyk ýarymgeçiriji gaplama materiallaryna uly täsir eder. Çipler kiçelip we has çylşyrymly bolansoň, bu kiçijik bölekleriň howpsuz daşalmagyny we saklanmagyny üpjün etmek üçin ýokary takyklykly daşaýjy lentalara, örtük lentalaryna we rulonlara bolan isleg artar.
Kompaniýamyz ýarymgeçirijiler senagatyndaky bu tehnologik ösüşleri ýakyndan yzarlamaga ygrarlydyr. Biz ASML-iň täze litografiýa tehnologiýasynyň döreden täze talaplaryna laýyk gelýän gaplama materiallaryny işläp düzmek üçin ylmy-barlag işlerine we işläp düzmelere maýa goýmagy dowam etdireris we ýarymgeçirijileri öndürmek prosesine ygtybarly goldaw bereris.
Ýerleşdirilen wagty: 2025-nji ýylyň 17-nji fewraly